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VLSI国际研讨会:中国论文录取率最低

来源:欧宝网页最新版 作者:欧宝网页官方版首页 发布时间: 2022-07-19 20:22:10 1次浏览 分享到:

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  来源:内容由半导体行业观察(ID:icbank)综合自mynavi,谢谢。

  据日媒mynavi报道,今年的“VLSI Symposium”将于 6 月 12 日至 17 日在夏威夷举行。

  报道进一步指出,从今年开始,会议的结构将发生重大变化。此前分开的“VLSI Technology Symposium”和“VLSI Circuits Symposium”这两个国际会议将合并为“VLSI Symposium on Technology & Circuits”,而本届的正式名称也已更改为“2022 IEEE Symposium on Technology & Circuits”。

  据报道所说,今年的会议主题是“未来关键基础设施的技术和电路”。VLSI Symposium委员会主席、东京大学教授Tadahiro Kuroda

  我再次意识到半导体技术,包括那些涉及半导体技术的技术,在我们的生活中占据了重要的位置。

  此外,全球对半导体的需求增长半导体还没有放缓,不能再说这种半导体短缺是暂时的。

  报道指出,本次研讨会论文总申请量为580篇,录用198篇,占比34%,与常年持平。换句话说,这是一次艰难的会议,只有三分之一的人通过。此外,日本的申请数量在主要国家和地区(美国、韩国、中国台湾、欧洲、中国大陆、日本)中最少。

  与往常一样,申请数量最多的是北美(美国/加拿大),有 134 份申请,接受率为 49%(65),远高于平均水平。日本的申请数量为32件,在主要国家/地区中是最低的,但接受率最高,为53%(17件)。韩国和中国大陆的申请数量增长迅速,韩国的录取率为34%(42),与平均水平差不多,但中国的录取率极低,仅为13%(12)。

  按领域分,技术领域有232个申请和82个采用,接受率为35%。在电路领域,申请数量为348件,采用数量为116件,通过率为33%。据程序委员会介绍,“虽然来自日本的申请数量少到32篇,但录取率却高达53%,高分论文也不少。” 此外,虽然来自中国大陆的申请数量在快速增加,接受率较低,但这是因为数量就是力量,研发人员相对于少数精英日本人来说正在迅速增加。表示有必要密切关注其未来将如何发展并对日本构成威胁。

  表1.2022 VLSI Technology Symposium 按地区/国家和技术/电路的接收论文数量细分(作者根据 VLSI 程序委员会提供的数据创建)